半導体デバイス製作室

クリーンルーム内風景　　　　　　　

半導体デバイス製作室、

フォトリソグラフィー室（各室クリーンルーム）

半導体デバイス製作のために以下の装置を備えてあります。

真空蒸着装置　　　　　　　　　　　　　スパッタリング装置

超純水装置　　　　　　　　　　　　　　ドラフター

マスクアライメント装置　　　　　　　　スピンナー等

比抵抗測定装置、マスク製造装置　　　　酸化炉、拡散炉、合金炉

分子線エピタキシー装置（反射高速電子線回折装置を含む）